有机硅发展史
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2019-10-31 10:53
【摘要】:有机硅虽然应用非常广,但其历史不过一百多年。 1863年,法国化学家弗里德尔(C.Friedel)及克拉夫茨(J.M.Crafts)从SiCl4与ZnEt2出发,在160℃下的封管中反应,制得了第一个含Si-C键的有机硅化合物SiEt4: 2ZnEt2+SiCl4SiEt4+2ZnCl2 1872年,拉登堡(A.Ladenburg)使用ZnEt2、Si(OEt)3Cl与Na反应,制得了带硅官能基的
有机硅虽然应用非常广,但其历史不过一百多年。
2ZnEt2+SiCl4SiEt4+2ZnCl2
1872年,拉登堡(A.Ladenburg)使用ZnEt2、Si(OEt)3Cl与Na反应,制得了带硅官能基的硅烷。两年后,他又从HgPh2与SiCl4出发,在封管中制得了PhSiCl3。1885年,波利斯(A.Polis)应用纳缩合法(即Wurtz反应)制得SiPH4等。一直到1903年,许多化学家为有机硅化学诞生付出了心血。人们习惯将这一阶段称为有机硅化学的创始期。
英国化学家基平(F.S.Kipping)从1898年到1944年对有机硅化学进行了广泛而深入的研究,先后发表论文57篇。他的突出贡献之一是将格利雅(Grignard)反应用于合成不同官能度的可水解硅烷,并成为日后有机硅工业的基础。该反应可示意如下:
溶剂
3RMgCl+2SiCl4=RSiCl3+R2SiCl2+3MgCl2
在此期间,迪尔塞(W.Dilthey)几乎与基平同时应用格利雅法合成了有机硅化合物。接着他又将Ph2SiCl2水解成Ph2Si(OH)2,并进而缩合得到六苯基环三硅氧烷(Ph2SiO)3,
这是第一个环状硅氧烷化合物,对推动聚硅谷氧烷的发展起到良好的作用。后人称这段时间为有机硅的成长期。
有机硅发展史
新闻中心
2021-11-24
从物理学角度考虑消除泡沫的方法主要包括放置挡板或滤网、机械搅拌、静电、冷冻、加热、蒸汽、射线照射、高速离心、加压减压、高频振动、瞬间放电和超声波(声学液体控制)等,这些方法都在不同的程度上促进了液膜两端气体的透过速率和泡膜的排液,使得泡沫的稳定因素小于衰减因素,从而泡沫的数量逐渐减少。但是这些方法共同的缺点是使用受环境因素的制约性较强、消泡速率不高等,优点在与环保、重复利用率高。
查看详情2021-11-24
在重力和压力差存在的条件下泡沫的液膜会不均衡的流动排液,气泡中的气体也会因为泡膜两边压力差不同的原因不断的发生扩散渗透,所以泡沫本身的不稳定性主要从动力学方面得以体现。 [4] 其衰减的机理主要有气体透过液膜的扩散和液膜的排液这两个方面,这两种性质是泡沫本身固有的属性,与表面活性剂的存在与否都没有关系,但是这两种衰减机理,只在泡沫体系形成的初始阶段作用比较明显,随着泡沫体系的衰减,这两种作用逐渐减弱,使得泡沫衰减的速率逐渐变慢。
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